
氣浮定位運動裝置以大理石平臺為基座, 運用氣浮導(dǎo)軌和電機控制技術(shù), 配合激光干涉儀最大測量范圍可達(dá)到 0-5m(任意長度可定制),在慢速運動情況下定位精度可達(dá)到 10nm,廣泛應(yīng)用于國防航天行業(yè)的產(chǎn)品檢測。當(dāng)定位精度在 2μm 情況下用直線電機控制氣浮運動,最大速度可達(dá)到 5m/s,配備相應(yīng)測量軟件對機器進行控制,測量方便,用途廣泛。
- 產(chǎn)品參數(shù)
- 適用范圍
- 產(chǎn)品描述
- 參數(shù)配置
技術(shù)特點
●導(dǎo)軌面間是氣體潤滑,因此摩擦系數(shù)極小。
●導(dǎo)軌磨損極小,儀器使用壽命長,能長期保證系統(tǒng)精度。
●氣膜具有誤差均化作用,可提高導(dǎo)軌運動精度。
●氣膜厚度幾乎不受速度影響,即使在極低速時也不會產(chǎn)生爬行,運動平穩(wěn)。
●幾乎不產(chǎn)生熱量,不會發(fā)生粘度變化,無需添加冷卻措施。
型號 | 納米級氣浮定位運動系統(tǒng) | |
測量方式 | 直接測量 | |
測量范圍 | mm | 0-5000(定制任意長度) |
測量精度 | μm | 慢速運動:0.5+L(mm)/500 |
測量精度 | μm | 快速運動:2+L(mm)/500 |
分辨率 | μm | 0.1 |
測量系統(tǒng) | 采用雷尼紹高精度光柵尺 | |
運動速度 | 最高可達(dá)5m/s | |
環(huán)境要求 | 溫度20±2℃;濕度50%±5%; | |
氣源壓力 | 0.4 - 0.6 Mpa |
氣浮定位運動裝置以大理石平臺為基座, 運用氣浮導(dǎo)軌和電機控制技術(shù), 配合激光干涉儀最大測量范圍可達(dá)到 0-5m(任意長度可定制),在慢速運動情況下定位精度可達(dá)到 10nm,廣泛應(yīng)用于國防航天行業(yè)的產(chǎn)品檢測。當(dāng)定位精度在 2μm 情況下用直線電機控制氣浮運動,最大速度可達(dá)到 5m/s,配備相應(yīng)測量軟件對機器進行控制,測量方便,用途廣泛。
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